mask aligner半自动光刻机

mask aligner半自动光刻机

半自动光刻机
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；
MIDAS为全球*的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上较早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。

产地：韩国MIDAS公司，一能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，高性价比
型号：MDA-400M, MDA-60MS



mask aligner半自动光刻机主要特点:
- 光源强度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 系统控制：手动、半自动和全自动控制；
- 曝光模式：真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盘范围可调；
- 技术：可双面对准，可双面光刻，具有IR和CCD模式
- 双CCD显微镜系统，z大放大1000倍，显示屏直接调节，比传统目镜对准更方便快捷，易于操作。
- 特殊的基底卡盘可定做；
- 具有楔形补偿功能。

更多详情：
http://www.airtest.net.cn/Products-30824045.html
https://www.chem17.com/st17159/product_30824045.html